在我国对半导体材料的要求超出全世界三分之一，19年单是集成化芯片進口额度就超出3000亿美元，根据所述数据信息不会太难发觉，在我国半导体材料市场容量十分大，但为什么中国沒有半导体材料生产商站出去抢占市??？缘故非常简单，我国芯片产业链发展比较晚，就硬实力来讲，各生产商属于力不从心。

就算是内地技术*秀的中芯，芯片制造加工工艺也不过是滞留在14nm环节，并且由于沒有高端光刻机扶持的原因，将来中芯工艺提升总是越来越难。但是，近期上海微电子传来一个喜讯。据了解，上海微电子选用紫外线源完成28nm加工工艺，促使国产光刻机技术性迈入重大进展。

要了解现阶段*秀的EUV光刻技术還是选用13.5nm光波长技术，而22nm技术则是13.5nm技术性以后，*秀的光刻机技术性。上海微电子也凭此技术跨越众多日本国光刻机生产商，变成仅次ASML的第二大光刻机企业。此成效也向全球证实，光刻机技术性强大的并不仅有ASML。

假如上海微电子所研发的此项技术平稳，可以完成规模生产，那麼对中国芯片加工制造业的发展趋势毫无疑问将具有极大协助。拥有国产光刻机机器设备，美国就没法随便运用封禁芯片加工厂，在我国芯片自力更生能力可能大幅度提高。乃至很有可能，我国摇身一变从芯片进口强国变为出口强国。

自然，国产光刻机的兴起也并不是一朝一夕，上海微电子现阶段仅仅完成了该加工工艺，具体运用怎样还需进一步明确。并且，就算*上海微电子取得成功造出22nm光刻机，但还要认知到，在我国高端光刻机品质与ASML光刻技术品质对比，依然拥有很大差别。

到了现在，就越发觉光刻机技术要求越来越高，要想在更多方面完成技术提升，便会越来越艰难。自然，综合看来，上海微电子完成22nm光刻机的研发对我国半导体产业及其芯片制造商来讲，全是激励人心的喜讯。上海微电子也为别的公司在开展技术提升时，开了一个好头。